[发明专利]一种通道式X射线安全检查设备透射图像形变校正方法有效

专利信息
申请号: 201110087882.6 申请日: 2011-04-08
公开(公告)号: CN102230975A 公开(公告)日: 2011-11-02
发明(设计)人: 杨奎;李启磊;王满仓 申请(专利权)人: 上海瑞示电子科技有限公司
主分类号: G01V5/00 分类号: G01V5/00
代理公司: 北京纽乐康知识产权代理事务所 11210 代理人: 唐忠庆
地址: 201103 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种通道式X射线安全检查设备透射图像形变校正方法,包括以下步骤:1)计算探测器的投影比例因子:根据通道式X射线安全检测设备中X射线源、物体通道平面以及探测板三者之间的位置关系,计算每一块探测器板及板上各探测器的投影比例因子;2)计算探测器形变校正因子:针对每一个探测器,分别计算得到一个形变校正因子;3)插值放大处理:根据形变校正因子的差异,对透射图像各像素点进行插值放大处理,得到形变校正结果图像。本发明的有益效果为:可以在现有通道式X射线安全检查设备的基础上,不增加任何硬件成本,仅通过本发明图像形变校正方法实现对透射图像的形变校正,减少安检员的漏判和误判。
搜索关键词: 一种 通道 射线 安全检查 设备 透射 图像 形变 校正 方法
【主权项】:
一种通道式X射线安全检查设备透射图像形变校正方法,其特征在于,包括以下步骤:1)计算探测器的投影比例因子:根据通道式X射线安全检测设备中X射线源、物体通道平面以及探测板三者之间的位置关系,计算每一块探测器板及板上各探测器的投影比例因子;2)计算探测器形变校正因子:针对每一个探测器,分别计算得到一个形变校正因子,形变校正因子用于对经过步骤1)获得的投影比例因子进行修正;3)插值放大处理:以经过步骤2)获得的探测器的形变校正因子为依据,对透射图像进行形变校正,根据形变校正因子的差异,对透射图像各像素点进行插值放大处理,得到形变校正结果图像。
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