[发明专利]光学玻璃及抑制光谱透过率劣化的方法无效
| 申请号： | 201110088659.3 | 申请日： | 2011-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN102241478A | 公开（公告）日： | 2011-11-16 |
| 发明（设计）人： | 荻野道子;土渊菜那 | 申请（专利权）人： | 株式会社小原 |
| 主分类号： | C03C3/062 | 分类号： | C03C3/062;C03C3/064;C03C3/12;C03C3/14;C03C3/16;C03C3/15;G02B1/00;C03B11/08 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了光谱透过率随时间推移的劣化被抑制了的光学玻璃、包括该光学玻璃的光学器件以及玻璃成形体制造方法。在该光学玻璃中，相对于换算成氧化物组成的玻璃总质量，以质量百分数计含有合计为5.0％以上且40.0％以下的选自由P2O5成份、SiO2成份和B2O3成份组成的组中的一种以上的成份、以及10.0％以上且60.0％以下的Nb2O5成份，过度曝光即在波长450nm下的光谱透过率的劣化量在5.0％以下。上述玻璃成形体制造方法使用该光学玻璃，并在模具内对软化的所述光学玻璃进行压制成形。 | ||
| 搜索关键词： | 光学玻璃 抑制 光谱 透过 率劣化 方法 | ||
【主权项】：
一种光学玻璃，其中，相对于换算成氧化物组成的玻璃总质量，以质量百分数计含有合计为5.0％以上且40.0％以下的选自由P2O5成份、SiO2成份和B2O3成份组成的组中的一种以上的成份、以及10.0％以上且60.0％以下的Nb2O5成份，过度曝光即在波长450nm下的光谱透过率的劣化量在5.0％以下。
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