[发明专利]一种封装图案的形成方法

摘要

本发明提供一种封装图案形成方法，包括：提供衬底；在所述衬底上旋涂光刻胶的有机溶液，烘干，得到光刻胶膜；预设曝光形状，对所述光刻胶膜进行紫外曝光，得到多个预制体；将所述多个预制体进行烘烤处理；将上述得到的产物进行紫外曝光，烘烤处理和等离子体处理。与现有技术相比，本发明通过对预制体进行烘烤处理，使光刻胶中水分挥发，降低了光刻胶的黏度，使光刻胶分子间及光刻胶分子与衬底间作用力增强，形成的封装图案附着力较大，从而使封装图案与衬底之间紧密接触，避免了封装图案与基板间缝隙的产生，从而避免了后续过程中制备的凸点发生互联。实验结果表明，本发明形成的封装图案的附着力为6.54g/mil2。

主权项

一种封装图案的形成方法，包括：a)提供衬底；b)在所述衬底上旋涂光刻胶的有机溶液，烘干，得到光刻胶膜；c)预设曝光形状，对所述光刻胶膜进行紫外曝光，得到多个预制体；d)将步骤c)得到的多个预制体进行烘烤处理；e)将步骤d)得到的产物进行紫外曝光、烘烤处理和等离子处理。