[发明专利]流体处理结构、光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201110094314.9 | 申请日： | 2011-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN102221788A | 公开（公告）日： | 2011-10-19 |
| 发明（设计）人： | D·M·H·菲利浦斯;D·J·M·迪莱克斯;C·J·G·范德顿根;M·A·C·斯凯皮斯;P·P·J·伯克文斯;M·J·范德赞登;P·马尔德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种流体处理结构、一种光刻设备和一种器件制造方法。所述流体处理结构配置成供给浸没液体至限定在投影系统和面对流体处理结构的正对表面之间的空间。流体处理结构的下表面具有：供给开口，配置成朝向正对表面供给流体；多个抽取开口，配置成移除流体处理结构和正对表面之间的流体；和在供给开口和抽取开口之间的突起。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 处理 结构 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种流体处理结构，配置成供给浸没液体至限定在投影系统和面对流体处理结构的正对表面之间的空间，其中流体处理结构的下表面具有：供给开口，配置成朝向正对表面供给流体；多个抽取开口，配置成移除流体处理结构和正对表面之间的流体；和在供给开口和抽取开口之间的突起。
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