[发明专利]一种多LD密集阵列无效

专利信息
申请号: 201110096552.3 申请日: 2011-04-18
公开(公告)号: CN102201649A 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: 李松柏;史俊锋;孙鑫鹏 申请(专利权)人: 中国兵器装备研究院
主分类号: H01S5/40 分类号: H01S5/40;H01S5/024;H01S5/02
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 张利萍
地址: 100089 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种多LD密集阵列,包括密集排列的多个柱台,每个柱台上固定一个LD,其中每个柱台均为倾斜柱台,上表面的倾斜方向与LD的电源指示方向或尾纤输出方向相同。优选的,本发明采用的柱台为二维倾斜柱台,柱台上表面沿着两个不同的方向倾斜;其中一个上仰倾角的方向与LD的电源指示方向相同,另一个上仰倾角的方向与LD的尾纤输出方向相同。本发明具有以下优点:(1)LD电极与输出尾纤更加便于整理。(2)充分利用空间。(3)与阶梯状阵列相比降低了阵列的高度,并可以保证冷却效果。(4)灵活性强,可以按照不同需要,选择单独制作并单独使用、单独制作并列阵使用、一体制作并一体使用。
搜索关键词: 一种 ld 密集 阵列
【主权项】:
一种多LD密集阵列,包括密集排列的多个柱台,每个柱台上固定一个LD,其特征在于,每个柱台均为倾斜柱台,上表面的倾斜方向与LD的电源指示方向或尾纤输出方向相同。
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