[发明专利]内壁安装凹形镜面的多晶硅还原炉及多晶硅还原炉用凹形镜面有效

专利信息
申请号: 201110096953.9 申请日: 2011-04-18
公开(公告)号: CN102211772A 公开(公告)日: 2011-10-12
发明(设计)人: 刘春江;段长春;李雪;袁希钢 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C01B33/035 分类号: C01B33/035;G02B5/10
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 王丽
地址: 300072 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开的一种内壁安装凹形镜面的多晶硅还原炉及多晶硅还原炉用凹形镜面,其特征在于还原炉内壁安装有高度抛光的凹形镜面,各个凹形镜面顺次紧密相邻并通过螺栓与炉体内壁固定。所安装镜面的数量等于炉内最外圈硅棒的数量,镜面与最外圈硅棒一一对应,并且镜面凹面的轴心跟与其对应的硅棒轴心位置重合。高度抛光的凹形镜面能够使高温硅棒辐射到炉体内壁的能量被反射回炉内,并且将反射回的能量聚焦于硅棒上,这种聚光技术能够在炉体内壁抛光的基础上进一步降低由于硅棒高温辐射所造成的能量损失,并且避免了对炉体内壁进行多次打磨抛光的繁杂工序,大大降低了多晶硅还原炉的生产成本。
搜索关键词: 内壁 安装 凹形 多晶 还原
【主权项】:
一种内壁安装凹形镜面的多晶硅还原炉,其特征在于多晶硅还原炉内壁安装有凹形镜面,各个凹形镜面顺次紧密相邻并通过螺栓与炉体内壁固定。
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