[发明专利]再生溅镀靶材及其制作方法无效
| 申请号： | 201110099296.3 | 申请日： | 2011-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN102747329A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | 王圣棻;吴柏成;刘娉婷;蔡忠宪 | 申请（专利权）人： | 光洋应用材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C4/12 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 汤在彦 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种再生溅镀靶材及其制作方法，所述再生溅镀靶材主要是于一回靶材靶胚的原溅镀面上成形一填补层，使该再生溅镀靶材利用该回靶材靶胚的原非溅镀面作为新的溅镀面，再应用于溅镀过程中，可充分利用回靶材剩余的部分，提高回靶材材料的使用率。其制作方法是在所述回靶材靶胚的原溅镀面上填入材料而成形填补层，并对填补层加工而达到预定规格尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 再生 溅镀靶材 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种再生溅镀靶材，其特征在于，其包含：一回靶材靶胚，其包含有一原溅镀面以及一原非溅镀面；以及一填补层，是成形于该回靶材靶胚的原溅镀面上结合一体，并以该回靶材靶胚的原非溅镀面作为再生溅镀靶材的溅镀面。
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