[发明专利]一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法无效
| 申请号： | 201110099968.0 | 申请日： | 2011-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN102243435A | 公开（公告）日： | 2011-11-16 |
| 发明（设计）人： | 王旭迪;金建;郑正龙;李鑫;汤启升 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/30 |
| 代理公司： | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人： | 何梅生 |
| 地址： | 230009 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法，是首先以玻璃片为基底，制备具有光栅图形的正光刻胶层，接着在正光刻胶层的表面镀上一层SiO2薄膜，随后在所述SiO2薄膜的表面旋涂一层负光刻胶，完全曝光并显影后得到微纳米流体系统。本发明方法新颖，制作简单，通道的均匀性好，不易出现堵塞，成功率高，同时该方法操作灵活，制造成本低，不需要昂贵的实验器材，利于大面积生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 正负 光刻 复合 显影 制备 纳米 流体 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法，其特征在于：首先以玻璃片为基底，制备具有光栅图形的正光刻胶层，接着在正光刻胶层的表面镀上一层SiO2薄膜，随后在所述SiO2薄膜的表面旋涂一层负光刻胶，完全曝光并显影后得到微纳米流体系统。
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