[发明专利]ZnO纳米带阵列的制备方法无效
申请号: | 201110100138.5 | 申请日: | 2011-04-21 |
公开(公告)号: | CN102181911A | 公开(公告)日: | 2011-09-14 |
发明(设计)人: | 蒋武锋;郝素菊;凌云汉 | 申请(专利权)人: | 河北联合大学 |
主分类号: | C25D11/34 | 分类号: | C25D11/34;B82Y40/00 |
代理公司: | 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 | 代理人: | 李桂芳;曹淑敏 |
地址: | 063009 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明公开了一种ZnO纳米带阵列的制备方法,其以Sn-Zn合金为阳极,在H2C2O4溶液进行电化学氧化;氧化后的合金在空气中煅烧,冷却后即得ZnO纳米带阵列。本方法具有简单易行的特点;且制备设备廉价、工艺参数容易控制;得到的ZnO纳米带与基底结合牢固。 | ||
搜索关键词: | zno 纳米 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种ZnO纳米带阵列的制备方法,其特征在于:以Sn‑Zn合金为阳极,在H2C2O4溶液进行电化学氧化;氧化后的合金在空气中煅烧,冷却后即得ZnO纳米带阵列。
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