[发明专利]测量高功率激光二极管阵列垂直发散角的方法及装置有效

专利信息
申请号: 201110100635.5 申请日: 2011-04-21
公开(公告)号: CN102539116A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 樊仲维;朱光 申请(专利权)人: 北京国科世纪激光技术有限公司
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G01J3/28
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100192 北京市海淀区西小*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种测量高功率激光二极管阵列垂直发散角的装置及方法,其中的方法包括:校准测量高功率激光二极管阵列垂直发散角的装置;测量垂直于激光二极管阵列发光面的光谱强度,且通过对相同光谱强度下旋转盘不同的旋转角度进行差值运算,进而获得高功率激光二极管阵列垂直发散角。本发明的优点在于测量装置具有准直系统,能够准确的对激光二极管阵列的垂直发散角和光谱特性进行测量。另外,本发明引入了水冷系统,保证了激光二极管在正常温度下工作。
搜索关键词: 测量 功率 激光二极管 阵列 垂直 发散 方法 装置
【主权项】:
一种测量高功率激光二极管阵列垂直发散角的方法,其特征在于,包括以下步骤:校准测量高功率激光二极管阵列垂直发散角的装置;测量垂直于激光二极管阵列发光面的光谱强度,且通过对相同光谱强度下旋转盘不同旋转角度之间进行差值运算,进而获得高功率激光二极管阵列垂直发散角。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京国科世纪激光技术有限公司,未经北京国科世纪激光技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110100635.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top