[发明专利]一种蓝宝石图形衬底激光剥离的方法无效
| 申请号： | 201110101453.X | 申请日： | 2011-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN102751397A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | 赵圣哲;钟泽;薛进营;周维 | 申请（专利权）人： | 比亚迪股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518118 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种蓝宝石图形衬底激光剥离的方法，包括以下步骤：a．采用光刻胶对蓝宝石衬底表面进行光刻显影，形成所需形状的掩模；b．对经过步骤a的蓝宝石衬底进行感应耦合等离子体刻蚀，刻蚀条件包括：50W≤物理轰击电极功率＜180W，400W≤化学反应电极功率＜850W；c．对经过步骤b的蓝宝石衬底进行清洗，去除掩膜；烘干后进行金属有机物化学气相沉积，在蓝宝石衬底上形成外延层；d．在外延层上表面键合Si或Cu基板，激光剥离去除蓝宝石衬底。本发明提供的方法，能有效防止蓝宝石衬底剥离过程中的外延片破片现象的发生。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蓝宝石 图形 衬底 激光 剥离 方法 | ||
【主权项】：
一种蓝宝石图形衬底激光剥离的方法，其特征在于，包括以下步骤：a．采用光刻胶对蓝宝石衬底表面进行光刻显影，形成所需形状的掩模；b．对经过步骤a的蓝宝石衬底进行感应耦合等离子体刻蚀，刻蚀条件包括：50 W≤物理轰击电极功率＜180W，400W＜化学反应电极功率≤850W；c．对经过步骤b的蓝宝石衬底进行清洗，去除掩膜；烘干后进行金属有机物化学气相沉积，在蓝宝石衬底上形成外延层；d．在外延层上表面键合Si或Cu基板，激光剥离去除蓝宝石衬底。
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