[发明专利]一种MB8镁合金表面薄层处理方法无效
| 申请号： | 201110101499.1 | 申请日： | 2011-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN102181906A | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 杜云慧;张鹏;刘汉武;卢小鹏 | 申请（专利权）人： | 北京交通大学 |
| 主分类号： | C25D11/30 | 分类号： | C25D11/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100044 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种MB8镁合金表面薄层处理方法，属于MB8镁合金表面薄层处理研究领域，本发明在交流等离子体微弧氧化处理方法基础上，通过向处理液中喷入氧气以提高处理液与镁合金反应的均匀性，并在氟化钾浓度为595～597g/L、氢氧化钾浓度为292～294g/L、工频交流电压为94～96V、每升处理液氧气喷入量为0.01～0.02L/s条件下，对MB8镁合金进行68～85秒的交流等离子体微弧氧化表面处理，可在MB8镁合金表面形成厚度均匀的8～14μm厚的保护薄层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 mb8 镁合金 表面 薄层 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种MB8镁合金表面薄层处理方法，采用交流等离子体微弧氧化处理方法对MB8镁合金进行表面处理，其特征在于，在进行表面处理前1分钟开始向处理液中喷入氧气，并在氟化钾浓度为595～597g/L、氢氧化钾浓度为292～294g/L、工频交流电压为94～96V、每升处理液氧气喷入量为0.01～0.02L/s条件下，对MB8镁合金进行68～85秒的交流等离子体微弧氧化表面处理。
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