[发明专利]一种AM60镁合金表面薄层厚度均匀处理方法无效
| 申请号： | 201110101664.3 | 申请日： | 2011-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN102140665A | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 杜云慧;张鹏;刘汉武;卢小鹏 | 申请（专利权）人： | 北京交通大学 |
| 主分类号： | C25D11/30 | 分类号： | C25D11/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100044 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种AM60镁合金表面薄层厚度均匀处理方法，属于AM60镁合金表面薄层厚度均匀处理研究领域，本发明在交流等离子体微弧氧化处理方法基础上，通过向处理液中喷入氧气以提高处理液与镁合金反应的均匀性，并在氟化钾浓度为903～905g/L、氢氧化钾浓度为365～367g/L、硅酸钠浓度为118～120g/L、工频交流电压为65～67V、每升处理液氧气喷入量为0.006～0.009L/s条件下，对AM60镁合金进行52～70秒的交流等离子体微弧氧化表面处理，可在AM60镁合金表面形成厚度均匀的8～14μm厚的保护薄层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 am60 镁合金 表面 薄层 厚度 均匀 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种AM60镁合金表面薄层厚度均匀处理方法，采用交流等离子体微弧氧化处理方法对AM60镁合金进行表面处理，其特征在于，在进行表面处理前1分30秒开始向处理液中喷入氧气，并在氟化钾浓度为903～905g/L、氢氧化钾浓度为365～367g/L、硅酸钠浓度为118～120g/L、工频交流电压为65～67V、每升处理液氧气喷入量为0.006～0.009L/s条件下，对AM60镁合金进行52～70秒的交流等离子体微弧氧化表面处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京交通大学，未经北京交通大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110101664.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：基于IronPython脚本语言的多业务联动实现方法
- 下一篇：空调控制装置
