[发明专利]非易失性电荷捕获型存储器件、其制备方法及应用无效

专利信息
申请号: 201110102040.3 申请日: 2011-04-22
公开(公告)号: CN102208346A 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 汤振杰;夏奕东;殷江;刘治国 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: H01L21/334 分类号: H01L21/334;C23C14/08;C23C14/28;H01L29/04;H01L29/12;H01L29/76
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人: 周静
地址: 210093 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及非易失性电荷捕获型存储器件、其制备方法及应用,制备方法操作简单、易于控制,所得存储器件中作为存储介质的纳米微晶分布均匀。所述非易失性电荷捕获型存储器件的制备方法包括以下步骤:a)在衬底表面形成隧穿层;b)在隧穿层上形成组成均匀的(ZrO2)x(M)1-x薄膜作为存储层,其中1>x>0.5,所述M为SiO2或Al2O3;c)在存储层上形成阻挡层;d)将以上制备的试样退火,使ZrO2纳米微晶从存储层中析出作为存储介质。本发明经过高温退火处理的手段,使ZrO2纳米微晶从存储层母相中析出,从而实现纳米微晶存储的效果。这种方法所得作为存储介质的纳米微晶均匀分布在非晶母相中。
搜索关键词: 非易失性 电荷 捕获 存储 器件 制备 方法 应用
【主权项】:
一种非易失性电荷捕获型存储器件的制备方法,其特征在于包括以下步骤:a)在衬底表面形成隧穿层;b)在隧穿层上形成组成均匀的(ZrO2)x(M)1‑x薄膜作为存储层,其中1>x>0.5,所述M为SiO2或Al2O3;c)在存储层上形成阻挡层;d)将以上制备的试样在低于M熔点的温度下退火,使ZrO2纳米微晶从存储层中析出,并被非晶母相包围,所述ZrO2纳米微晶作为存储介质。
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