[发明专利]风管流量调节结构无效
申请号: | 201110102839.2 | 申请日: | 2011-04-22 |
公开(公告)号: | CN102747342A | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
发明(设计)人: | 沈孟岳;张富钧 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人: | 杨波 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种风管流量调节结构,其包括第一风管、第二风管、调节座及挡板组件。调节座连接于第一风管和第二风管之间,并与第一风管和第二风管连通。调节座具有至少一个流量调节口,挡板组件用于可移动地插设于至少一个流量调节口内。本发明的风管流量调节结构可调节风管内气体流量的大小,且不容易堵塞。 | ||
搜索关键词: | 风管 流量 调节 结构 | ||
【主权项】:
一种风管流量调节结构,其包括第一风管和第二风管,其特征在于:该风管流量调节结构还包括调节座和挡板组件,该调节座连接于该第一风管和该第二风管之间,并与该第一风管和该第二风管连通,该调节座具有至少一个流量调节口,该挡板组件用于可移动地插设于该至少一个流量调节口内。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的