[发明专利]膜产品研发用辅助镀膜装置及其镀膜方法无效
| 申请号： | 201110103162.4 | 申请日： | 2011-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN102191469A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 谭卓鹏;沈剑山;周福云;赵华平 | 申请（专利权）人： | 东莞市康达机电工程有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/04 |
| 代理公司： | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人： | 彭长久 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市寮*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种膜产品研发用辅助镀膜装置及其镀膜方法，包括有真空镀膜室以及安装于该真空镀膜室中的工件架、溅射靶和掩模板；该溅射靶设于工件架外；该掩模板上设置有模孔，掩模板可活动地设于工件架和溅射靶之间；藉此，通过利用掩模板控制溅射靶朝向工件架喷镀物质的范围，该溅射靶喷出的物质量可控，掩模板移动的方向和速度亦可控，以使得喷镀出来的薄膜结构的每个区域的成分配比和厚度均可控可知，只需一次喷镀就可以得到无数个成分配比和厚度不一样的区域，从而可快速轻易地选出具有最优光学性能的薄膜结构，并获取该薄膜结构的成分配比和厚度，大大减少选膜的工作量，降低选膜难度，从而缩短研发周期，降低研发成本。 | ||
| 搜索关键词： | 产品 研发 辅助 镀膜 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种膜产品研发用辅助镀膜装置，其特征在于：包括有真空镀膜室以及安装于该真空镀膜室中的工件架、溅射靶和掩模板；该溅射靶设置于工件架外，溅射靶用于朝向工件架喷镀物质；该掩模板上设置有模孔，掩模板可活动地设置于工件架和溅射靶之间用于控制溅射靶朝向工件架喷镀物质的范围。
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