[发明专利]基于泽尼克相衬成像的相移干涉显微装置及方法

摘要

本发明涉及基于泽尼克相衬成像的相移干涉显微装置及方法，包括沿光的入射方向依次设置的照明单元、显微放大单元以及相衬成像单元；照明单元包括依次沿光路方向设置的扩束系统、多光束照明产生单元、缩束准直单元；扩束系统包括沿光路方向依次设置的激光器、光强控制器和扩束单元；多光束照明产生单元包括沿光路依次设置的锥镜、第一透镜、旋转散射体、第二透镜以及振幅掩模板；被测样品放置在第一物镜和第二物镜之间的焦面上，被测样品和CCD相机满足物像关系。本发明解决了传统泽尼克相衬成像的光晕效应，同时实现了对相位物体的定量测量，光路具有相干噪声小，抗振动性好，横向分辨率高等优点。

主权项

一种基于泽尼克相衬成像的相移干涉显微装置，其特征在于：包括沿光的入射方向依次设置的照明单元、显微放大单元以及相衬成像单元；所述照明单元包括依次沿光路方向设置的扩束系统、多光束照明产生单元、缩束准直单元；所述扩束系统包括沿光路方向依次设置的激光器(1)、光强控制器(2)和扩束单元(3)；所述多光束照明产生单元包括沿光路依次设置的锥镜(4)、第一透镜(5)、旋转散射体(6)、第二透镜(7)以及振幅掩模板(8)；所述旋转散射体(6)设置在第一透镜(5)的后焦平面上；所述振幅掩模板(8)放置在旋转散射体(6)被第二透镜(7)成像后的像面上；所述缩束准直单元沿光路依次包括第三透镜(9)和第一物镜(10)，所述振幅掩模板(8)设置在由第三透镜(9)和第一物镜(10)组成的透镜组合的前焦平面上；所述显微放大单元沿光路依次包括第二物镜(12)和第四透镜(13)；所述相衬成像单元沿光路依次包括相位掩模板(14)和CCD相机(15)，所述相位掩模板(14)设置在由第二物镜(12)和第四透镜(13)组成的透镜组合的后焦平面上；所述被测样品(11)放置在第一物镜(10)和第二物镜(12)之间的焦面上，所述被测样品(11)和CCD相机(15)满足物像关系。