[发明专利]纳米复合相变材料、制备方法及其在相变存储器中的应用有效

专利信息
申请号: 201110110342.5 申请日: 2011-04-29
公开(公告)号: CN102169958A 公开(公告)日: 2011-08-31
发明(设计)人: 吕业刚;宋三年;宋志棠 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;C23C14/34;B82Y10/00;B82Y40/00
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 李仪萍
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种纳米复合相变材料及其制备方法、以及在相变存储器中的应用。其中,所述纳米复合相变材料包含:摩尔百分比为70-99%的相变材料GeTe和摩尔百分比为1-30%的介质材料HfO2。相变材料GeTe与介质材料HfO2在纳米尺度内均匀复合,一方面抑制了相变材料的结晶,提升了材料的热稳定性,改善了材料的数据保持能力;另一方面因为介质材料的参与,使得有效编程体积减小,因而减小了相变单元结晶前后的体积变化和降低了RESET电流,这有助于存储器件的操作稳定性和实现低功耗。总之,这种新型纳米复合相变材料应用到存储器中,可使相变存储器件的RESET电压降低,编程体积减小,有利于实现高密度存储,提高相变存储器的编程过程中的加热效率,降低其功耗,提升数据保持能力等。
搜索关键词: 纳米 复合 相变 材料 制备 方法 及其 存储器 中的 应用
【主权项】:
一种纳米复合相变材料,其特征在于包括:摩尔百分比为70‑99%的相变材料GeTe,以及摩尔百分比为1‑30%的介质材料。
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