[发明专利]可循环再用铜和铜合金表面微蚀刻处理剂及处理系统无效
| 申请号： | 201110111309.4 | 申请日： | 2011-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN102181865A | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 章晓冬;刘江波 | 申请（专利权）人： | 广州市天承化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/08;C23F1/46 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 张玲春 |
| 地址： | 510990 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可循环再用铜和铜合金表面微蚀刻处理剂及处理系统，该微蚀剂按重量百分比包含以下组分：硫酸或/和硝酸1％～20％、硫酸铁或/和硝酸铁1.5％～35％、阴离子氟素表面活性剂0.005％～0.2％、添加剂0.005％～5％，余量为去离子水。另外，本发明还公开了可循环再用铜和铜合金表面微蚀刻处理系统，其包括微蚀工作槽；药剂电解再生及回收金属铜系统；以及将微蚀工作槽及电解回收及再生槽连接并实现自动化稳定控制的自动控制系统。本发明的电路板微蚀再生循环工艺及设备可以降低微蚀刻工艺的生产成本，提高铜及铜合金表面微蚀刻工艺的水平，并达到清洁生产实现零排放的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 循环 再用 铜合金 表面 蚀刻 处理 系统 | ||
【主权项】：
1.一种可循环再用铜和铜合金表面微蚀刻处理剂，其特征在于：按重量百分比包含以下组分：![]()
余量为去离子水。
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