[发明专利]一种基于超材料的漫反射装置有效

专利信息
申请号: 201110111718.4 申请日: 2011-04-29
公开(公告)号: CN102760956A 公开(公告)日: 2012-10-31
发明(设计)人: 刘若鹏;徐冠雄;季春霖;岳玉涛 申请(专利权)人: 深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司
主分类号: H01Q15/00 分类号: H01Q15/00;H01Q15/23
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种基于超材料的漫反射装置,其包括超材料和设置于该超材料一侧中上的反射层,该超材料由多个立方体结构单元沿三维方向叠加而成,该立方体结构单元尺寸小于电磁波波长的五分之一且包括基材以及在基材中形成的一个或多个小孔,每个立方体结构单元的介电常数和磁导率随机分布。本发明采用打孔方式来改变超材料各点的电磁参数使得超材料整体的电磁场数呈随机分布,电磁波经过超材料后被反射层反射并再次经过该超材料而形成漫反射,具有工艺简单、成本低廉且易于实现的有益效果。
搜索关键词: 一种 基于 材料 漫反射 装置
【主权项】:
一种基于超材料的漫反射装置,其特征在于:包括:超材料和设置于该超材料一侧中上的反射层,该超材料由多个立方体结构单元沿三维方向叠加而成,该立方体结构单元包括基材以及在基材中形成的一个或多个小孔,每个立方体结构单元的介电常数和磁导率随机分布。
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