[发明专利]具有密封微腔层的基膜及其制作方法无效
申请号: | 201110113127.0 | 申请日: | 2011-04-29 |
公开(公告)号: | CN102193265A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 徐良衡;姚红兵;高芸;杨凯 | 申请(专利权)人: | 上海复旦天臣新技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/167 | 分类号: | G02F1/167;C09D189/00 |
代理公司: | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人: | 罗大忱 |
地址: | 200433 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有密封微腔层的基膜及其制作方法,所述具有密封微腔层的基膜包括基膜(1)、涂覆在所述的基膜(1)导电层上的微腔明胶层(2)和涂覆在微腔明胶层(2)上的密封明胶层(3);所述的微腔明胶层(2)具有微腔(201),所述的微腔(201)中设有电泳液。本发明使用刮刀涂布法,用明胶作微腔层,用含黑白粒子的四氯乙烯作电泳液,制作了可用于电泳显示的具有密封微腔层的基膜,工艺简单,制作方便。明胶用热水就可以轻易从ITO上擦去,不会影响ITO的导电性。 | ||
搜索关键词: | 具有 密封 微腔层 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
具有密封微腔层的基膜,其特征在于,包括基膜(1)、涂覆在所述的基膜(1)导电层上的微腔明胶层(2)和涂覆在微腔明胶层(2)上的密封明胶层(3);所述的微腔明胶层(2)具有微腔(201),所述的微腔(201)中设有电泳液。
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