[发明专利]一种蓝光发光二极管的外延片结构及其制造工艺有效

专利信息
申请号: 201110116055.5 申请日: 2011-05-06
公开(公告)号: CN102194938A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 吉爱华;张杰;边树仁;胡家琪 申请(专利权)人: 鄂尔多斯市荣泰光电科技有限责任公司
主分类号: H01L33/02 分类号: H01L33/02;H01L33/64;H01L33/00
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 彭秀丽
地址: 017000 内蒙古自治*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要: 发明提供一种蓝光发光二极管的外延片结构,在衬底层上依次成型有P-GaN接触层(6),PAlGaN过渡层(5),InGaN/GaN发光层(4),N-GaN接触层(3),所述衬底层采用钼铜基板(8),所述钼铜基板(8)采用各向异性导电粘合剂(7)与所述P-GaN接触层(6)粘结在一起。本发明还公开一种制造蓝光发光二极管外延片结构的工艺。本发明所述的蓝光发光二极管的外延片结构具有发光功率高,散热性能好,可以应用到生产线上进行批量生产等优点。
搜索关键词: 一种 发光二极管 外延 结构 及其 制造 工艺
【主权项】:
一种蓝光发光二极管的外延片结构,在衬底层上依次成型有P‑GaN接触层(6),PAlGaN过渡层(5),InGaN/GaN发光层(4),N‑GaN接触层(3),其特征在于:所述衬底层采用钼铜基板(8),所述钼铜基板(8)采用各向异性导电粘合剂(7)与所述P‑GaN接触层(6)粘结在一起。
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