[发明专利]薄膜沉积装置无效
申请号: | 201110117015.2 | 申请日: | 2011-05-05 |
公开(公告)号: | CN102766850A | 公开(公告)日: | 2012-11-07 |
发明(设计)人: | 方政加;杨成杰 | 申请(专利权)人: | 绿种子能源科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/44 |
代理公司: | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人: | 陈波;文琦 |
地址: | 英属维尔京群岛托尔托拉罗德*** | 国省代码: | 维尔京群岛;VG |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种具有一承载盘模块的薄膜沉积装置。在一实施例中,承载盘模块包含一平面式主承载盘与多个卫星承载盘,其中,仅使用单一驱动力驱动主承载盘,即可通过离心力带动卫星承载盘朝径向外侧滑行,使卫星承载盘与设置于主承载盘外侧的一定子摩擦,进而驱动卫星承载盘。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种薄膜沉积装置,包括:一反应腔;位于所述反应腔内的一承载盘模块,该承载盘模块用以承载至少一个晶圆,其中,该承载盘模块包含一平面式主承载盘以及一个或多个卫星承载盘,所述主承载盘上方设置有一个或多个所述卫星承载盘,当所述主承载盘旋转时,以离心力带动一个或多个所述卫星承载盘向径向外侧滑行;设置于主承载盘外侧的至少一个定子,当所述主承载盘旋转时,一个或多个所述卫星承载盘被离心力带动向外侧滑行而摩擦所述定子,藉此旋转一个或多个所述卫星承载盘;设置于主承载盘下方的一加热模块,用以加热所述晶圆;以及一驱动模块,用以驱动所述主承载盘旋转。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的