[发明专利]一种投影光刻物镜有效
| 申请号： | 201110117085.8 | 申请日： | 2011-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN102768397A | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | 武珩;黄玲 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/22 | 分类号： | G02B13/22;G02B17/08;G02B13/00;G02B3/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种投影光刻物镜，沿光束传播方向依次包括：一第一反射装置，将物方平面的入射光线反射进入一光学透镜系统；所述光学透镜系统包括：一具有正光焦度的第一透镜组；一具有负光焦度的第二透镜组；一凹面球面反射镜；以及一第二反射装置，将所述光学透镜系统的出射光线反射进入像方平面；其中，所述第一、第二透镜组满足以下关系：0.1＜|fG11/fG12|＜0.5其中，fG11：第一透镜组的焦距；fG12：第二透镜组的焦距。本发明的亚微米投影物镜，能校正场曲、像散，并实现物像空间的双远心。在能够实现亚微米分辨率同时，物面与像面平行，为整机设计带来便利。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 光刻 物镜 | ||
【主权项】：
一种投影光刻物镜，其特征在于，沿光束传播方向依次包括：一第一反射装置，将物方平面的入射光线反射进入一光学透镜系统；所述光学透镜系统包括：一具有正光焦度的第一透镜组；一具有负光焦度的第二透镜组；一凹面球面反射镜；以及一第二反射装置，将所述光学透镜系统的出射光线反射进入像方平面；其中，所述第一、第二透镜组满足以下关系：0.1＜|fG11/fG12|＜0.5其中，fG11：第一透镜组的焦距；fG12：第二透镜组的焦距。
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