[发明专利]获取基于BL模型的三维掩膜空气中成像的方法

摘要

本发明提供一种获取基于BL模型的三维掩膜空气中成像的方法，属于光刻分辨率增强技术领域。当所述的掩膜为二值掩膜时，通过计算掩膜图形对应的总中央透射区域对应的透射率以及边界层的透射率，获取掩膜图形中各像素点对应的FTE和FTM进而计算出空气中成像；当所述的掩膜为PSM时，通过计算不同开口对应中央透射区域的透射率以及其对应的边界层的透射率，获取掩膜图形中各像素点对应的FTE和FTM进而计算出空气中成像；因此本发明对二值掩膜和PSM同样适用。同时本发明利用霍普金斯模型，对部分相干光源所包含的各相干点光源的空气中成像进行叠加，因此本发明适用于采用部分相干光源作为照明系统的光刻机。

主权项

1.一种获取基于BL模型三维掩膜空气中成像的方法，其特征在于，具体步骤为：步骤A1、基于BL模型计算三维掩膜TE极化波对应的近场分布F^TE和TM极化波对应的近场分布F^TM；当所述的掩膜为二值掩膜时，则掩膜图形中开口对应的总中央透射区域的透射率为1，阻光部分的透射率为0，边界层透射率分别为s_t和s_n，边界层宽度为w；设像素尺寸为p，则所述边界层宽度w包含d＝w/p个像素；TE极化波对应的近场分布F^TE为式(1)：TM极化波对应的近场分布F^TM为式(2)：其中，Γ(x，y)为总中央投射区域上各像素点对应的像素值，即各像素点对应的透射率；当所述的掩膜为PSM时，则掩膜图形中0°相位开口对应的中央透射区域的透射率为1或-1，边界层透射率为s_t1和s_n1，边界层宽度为w₁；若0°相位开口对应的中央透射区域的透射率为1，则180°相位开口对应的中央透射区域的透射率为-1，否则180°相位开口对应的中央透射区域的透射率为1，边界层透射率为s_t2和s_n2，边界层宽度为w₂；阻光部分对应的透射率为0；设像素尺寸为p，则0°相位开口对应的边界层宽度w₁包含d₁＝w₁/p个像素，180°相位开口对应的边界层宽度w₂包含d₂＝w₂/p个像素；TE极化波对应的近场分布F^TE为式(3)：TM极化波对应的近场分布F^TM为式(4)：步骤A2、根据F^TE和F^TM利用霍普金斯模型计算空气中成像为式(9)和式(10)：ITE=12Σm=1Sφm|hm⊗FTE|2---(9)]]>ITM=12Σm=1Sφm|hm⊗FTM|2---(10)]]>其中，h^m为第m个相干系统分量对应的冲击响应；φ_m为第m个相干系统分量对应的傅里叶级数的系数，m＝1，2，3……S，S为部分相干光源中所包含的点光源的个数；步骤A3、将I_TE和I_TM进行叠加获取空气中成像I。