[发明专利]一种系统误差自校准的光刻机投影物镜波像差在线检测装置有效

专利信息
申请号: 201110128071.6 申请日: 2011-05-17
公开(公告)号: CN102200695A 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: 李艳秋;汪海;刘克 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01M11/02
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 李爱英;杨志兵
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种系统误差自校准的投影物镜波像差在线检测装置,能够实现对光刻机投影物镜波相差的高精度检测。采用设有方形针孔阵列的物方掩模板,通过方形针孔阵列产生理想的球面波,消除了照明系统对光刻机投影物镜波像差检测的影响,从而进一步提高了检测精度。利用针孔阵列滤波的系统误差自校准,通过在光刻机投影物镜的物面放置方孔掩模板和像面放置针孔阵列掩模板,在保证曝光光源利用率的同时,实现了对待测照明系统残留像差和投影物镜波像差的空间滤波,从而可以快速,高精度的获得投影物镜的波像差。
搜索关键词: 一种 系统误差 校准 光刻 投影 物镜 波像差 在线 检测 装置
【主权项】:
一种系统误差自校准的光刻机投影物镜波像差在线检测装置,包括准直物镜、剪切装置、轴向调节装置、光电探测器、存储器、运算器、控制器、物方掩模板以及像方掩模板;其特征在于:物方掩模板位于光刻机的物方工件台上,且设有方形针孔阵列A和方孔A,所述方形针孔阵列A上的针孔直径r1小于光刻机的投影物镜的物方衍射极限尺寸,如公式(1)r1<0.61λm×/NAi                     (1)其中,λ为光刻机中曝光光源发出光波的波长,NAi为光刻机中投影物镜的像方数值孔径,m×为光刻机中投影物镜的缩小倍率;像方掩模板位于光刻机的像方工件台上,且设有方形针孔阵列B和方孔B,所述方形针孔阵列B上的针孔直径r2小于所述光刻投影物镜的像方衍射极限尺寸,如公式(2)r2<0.61λ/NAi                   (2)方形针孔阵列A中每行第一个针孔和最后一个针孔的圆心距为l1=a1‑r1,方孔A的边长为a1,a1≤pf/4zm×;方形针孔阵列B中每行第一个针孔与最后一个针孔的圆心距为l2=a2‑r2,方孔B的边长为a2,a2=a1·m×≤pf/4z;其中,p为所述剪切装置的周期,f为所述准直物镜的焦距、z为所述剪切装置与光电探测器之间的间距;所述方形针孔阵列A上每相邻两针孔之间距离d1>1.5r1,所述方形针孔阵列B上每相邻两针孔之间距离d2>1.5r2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学,未经北京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110128071.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top