[发明专利]一种优化曝光系统性能的方法有效
| 申请号： | 201110129458.3 | 申请日： | 2011-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN102789134A | 公开（公告）日： | 2012-11-21 |
| 发明（设计）人： | 宋平;李战斌;马明英;段立峰 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06N3/08 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种优化曝光系统性能的方法，包括：步骤一、将不同照明模式下能量传感器的高度作为神经网络的输入，将该高度所对应的半影宽度作为神经网络输出；步骤二、利用该输入输出拟合曝光系统并输出一预测结果值；步骤三、利用该预测结果值作为遗传算法极值寻优的个体适应度值以获得曝光系统最优半影高度；步骤四、根据该最优半影高度，通过物像关系以获得可变狭缝的最优高度；以及步骤五，根据步骤四获得的该可变狭缝的最优高度调节该可变狭缝的高度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 优化 曝光 系统 性能 方法 | ||
【主权项】：
一种优化曝光系统性能的方法，包括：步骤一、将不同照明模式下能量传感器的高度作为神经网络的输入，将该高度所对应的半影宽度作为神经网络输出；步骤二、利用该输入输出拟合该曝光系统并输出一预测结果值；步骤三、利用该预测结果值作为遗传算法极值寻优的个体适应度值以获得该曝光系统最优半影高度；步骤四、根据该最优半影高度，通过物像关系以获得该曝光系统可变狭缝的最优高度；以及步骤五，根据步骤四获得的该可变狭缝的最优高度调节该可变狭缝的高度。
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