[发明专利]一种提高单晶铜键合丝封装性能的制备工艺无效
申请号: | 201110132163.1 | 申请日: | 2011-05-22 |
公开(公告)号: | CN102280389A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
发明(设计)人: | 赵剑青;杨东鲁;黄浩;赖志伟;钟丁通 | 申请(专利权)人: | 迈士通集团有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/00;C22F1/08 |
代理公司: | 厦门原创专利事务所 35101 | 代理人: | 高巍 |
地址: | 361015 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明涉及一种提高单晶铜键合丝封装性能的制备工艺,其步骤是:1)将单晶铜杆通过若干道拉丝工序后形成细小的单晶铜键合丝;2)将经过乙醇超声洗涤的单晶铜键合丝作退火软化加工处理;3)在退火管后设置乙醇冷却槽,将退火后的单晶铜键合丝作乙醇急速冷却处理;4)将经过乙醇冷却槽急冷的单晶铜键合丝以红外干燥装置烘干;5)将干燥后的单晶铜键合丝经复绕分卷及真空包装后得到单晶铜键合丝产品。按照本发明生产的单晶铜键合丝能大大提高产品的抗氧化性能,并保证其性质均一、表面清洁干燥,有效提高单晶铜键合丝产品的封装性能,本方法生产工艺过程简单,操作简便。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 单晶铜键合丝 封装 性能 制备 工艺 | ||
【主权项】:
一种提高单晶铜键合丝封装性能的制备工艺,其步骤为:将单晶铜杆通过拉丝工序后形成直径为0.01mm~0.5mm的细小单晶铜键合丝;将经过乙醇超声波清洗器洗涤后的单晶铜键合丝作退火软化加工处理,以使单晶铜键合丝获得较高的破断力和延伸率;将退火后的单晶铜键合丝穿过乙醇冷却槽作急速冷却处理,防止单晶铜键合丝在高温下与空气中的氧气发生氧化反应,减少单晶铜键合丝表面氧化膜的生成,提高单晶铜键合丝的封装性能;将通过乙醇冷却槽急速冷却后的单晶铜键合丝进行干燥处理;将干燥后的单晶铜键合丝复绕分卷及真空包装。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造