[发明专利]折射率分布测量方法和折射率分布测量设备有效
申请号: | 201110132234.8 | 申请日: | 2011-05-20 |
公开(公告)号: | CN102297758A | 公开(公告)日: | 2011-12-28 |
发明(设计)人: | 加藤正磨 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02;G01N21/41 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 魏小薇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及折射率分布测量方法和折射率分布测量设备以及制造光学元件的方法。该折射率分布测量方法包括如下步骤:测量具有第一折射率的第一介质中的第一透射波前和具有不同于第一折射率的第二折射率的第二介质中的第二透射波前,以及通过利用第一透射波前和第二透射波前的测量结果以及基准被检物的每个透射波前移除被检物的形状分量,获得多个取向中的每一个取向中的被检物的折射率分布投影值,该基准被检物具有与被检物相同的形状以及具有特定的折射率分布,并且以与被检物的取向相同的取向位于第一介质和第二介质中的一个中,以及基于与该多个取向对应的多个折射率分布投影值计算被检物的三维折射率分布。 | ||
搜索关键词: | 折射率 分布 测量方法 测量 设备 | ||
【主权项】:
一种折射率分布测量方法,包含如下步骤:通过把被检物布置在具有与该被检物的折射率不同的折射率的介质中并且通过将参考光引入到被检物中,测量被检物的透射波前;以及通过使用透射波前的测量结果,计算被检物的折射率分布,其特征在于,在被检物在介质中的互不相同的多个取向中,所述测量的步骤测量具有第一折射率的第一介质中的第一透射波前和具有与第一折射率不同的第二折射率的第二介质中的第二透射波前;以及所述计算的步骤通过利用第一透射波前和第二透射波前的测量结果以及基准被检物的每个透射波前移除被检物的形状分量,来获得在所述多个取向中的每一个取向中的被检物的折射率分布投影值,所述基准被检物具有与所述被检物相同的形状以及具有特定的折射率分布,并且以与所述被检物的取向相同的取向位于第一介质和第二介质中的一个中,并且,所述计算的步骤基于与所述多个取向对应的多个折射率分布投影值来计算该被检物的三维折射率分布。
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