[发明专利]一种梯度氢气法生长绒面结构ZnO-TCO薄膜及应用有效

专利信息
申请号: 201110132760.4 申请日: 2011-05-20
公开(公告)号: CN102199759A 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: 陈新亮;耿新华;王斐;张德坤;魏长春;黄茜;张建军;张晓丹;赵颖 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54;C23C14/08;C23C14/35;H01L31/0224
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人: 侯力
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种梯度氢气法生长绒面结构ZnO-TCO薄膜,以玻璃衬底为基片,以ZnO:Ga2O3或ZnO:Al2O3作为靶材原料,溅射气体为Ar气,溅射过程中引入氢气且在溅射镀膜周期中氢气流量呈梯度变化,利用磁控溅射镀膜技术制备绒面结构ZnO-TCO薄膜。本发明的优点是:相比于正常氢气流量下利用磁控溅射镀膜技术获得的绒面结构ZnO-TCO薄膜,利用梯度氢气流量法生长的绒面结构ZnO-TCO薄膜具有较好的透过率和较好的电学特性,且薄膜的绒面结构取得明显改善;该薄膜应用于微晶硅薄膜电池或非晶硅/微晶硅叠层薄膜太阳电池,可提高光散射作用,增加入射光程,有效降低有源层厚度,提高Si基薄膜太阳电池的效率和稳定性。
搜索关键词: 一种 梯度 氢气 生长 结构 zno tco 薄膜 应用
【主权项】:
一种梯度氢气法生长绒面结构ZnO‑TCO薄膜,其特征在于:以玻璃衬底为基片,以纯度为99.995%的ZnO:Ga2O3或ZnO:Al2O3陶瓷靶作为靶材原料,溅射气体为Ar气,溅射过程中引入氢气且在溅射镀膜周期中氢气流量呈梯度变化,利用磁控溅射镀膜技术制备绒面结构ZnO‑TCO薄膜。
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