[发明专利]多色调光掩模的制造方法和图案转印方法

摘要

本发明提供多色调光掩模的制造方法和图案转印方法，既能利用抗蚀剂图案的减膜来削减绘图和显影的次数，又能提高疏密部分之间的抗蚀剂图案的减膜速度的面内均匀性。所述制造方法具有如下工序：形成第1抗蚀剂图案，该第1抗蚀剂图案覆盖遮光部的形成区域和半透光部的形成区域，且半透光部的形成区域中的抗蚀剂膜的厚度比遮光部的形成区域中的抗蚀剂膜的厚度薄；以及向第1抗蚀剂图案供给活性氧，对第1抗蚀剂图案进行减膜，其中，通过露出的半透光膜来消耗提供给第1抗蚀剂图案的活性氧的一部分。

主权项

一种多色调光掩模的制造方法，该制造方法在透明基板上形成包含遮光部、半透光部以及透光部的转印图案，其特征在于，该制造方法通过以下工序来形成所述透光部、所述半透光部以及所述遮光部：准备光掩模坯体，该光掩模坯体是在所述透明基板上按顺序依次层叠半透光膜、遮光膜以及抗蚀剂膜而得到的；对所述抗蚀剂膜实施绘图和显影，形成第1抗蚀剂图案，该第1抗蚀剂图案覆盖所述遮光部的形成区域和所述半透光部的形成区域，且所述半透光部的形成区域中的所述抗蚀剂膜的厚度比所述遮光部的形成区域中的所述抗蚀剂膜的厚度薄；第1蚀刻工序，将所述第1抗蚀剂图案作为掩模进行蚀刻；以及第2蚀刻工序，使用对所述第1抗蚀剂图案进行减膜而形成的第2抗蚀剂图案进行蚀刻，并且，在所述透光部的形成区域中露出所述半透光膜或所述抗蚀剂膜的状态下，进行所述第1抗蚀剂图案的减膜。