[发明专利]进一步加工被纯化的羟基羧酸的方法无效
| 申请号： | 201110135681.9 | 申请日： | 2005-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN102295550A | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 小川知幸;星智广;栉田勉;大田原健太郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社吴羽 |
| 主分类号： | C07C59/06 | 分类号： | C07C59/06;C07C51/43;C07D319/12;C08G63/78;C08G63/06 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 张蓉珺;林柏楠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种进一步加工被纯化的羟基羧酸的方法，其包括：一种纯化羟基羧酸的连续方法，其包括：将羟基羧酸水溶液进行结晶纯化的结晶步骤、从滤液中分离羟基羧酸晶体的分离步骤、和用洗液洗涤所述羟基羧酸晶体以进一步纯化的洗涤步骤，从而获得被纯化的羟基羧酸，其中所述洗液为起始羟基羧酸水溶液，将与所述羟基羧酸晶体分离的一部分滤液排出系统，和将洗涤所述羟基羧酸晶体之后的洗涤滤液作为待进行所述结晶步骤的羟基羧酸水溶液再循环；将该羟基羧酸进行缩聚形成羟基羧酸的低聚物；以及使该低聚物解聚以形成作为所述羟基羧酸的二聚体的环酯。本发明的方法适合地用于进一步加工被纯化的羟基羧酸。 | ||
| 搜索关键词： | 进一步 加工 纯化 羟基 羧酸 方法 | ||
【主权项】：
一种进一步加工被纯化的羟基羧酸的方法，其包括：一种纯化羟基羧酸的连续方法，其包括：将羟基羧酸水溶液进行结晶纯化的结晶步骤、从滤液中分离羟基羧酸晶体的分离步骤、和用洗液洗涤羟基羧酸晶体以进一步纯化的洗涤步骤，从而获得被纯化的羟基羧酸，其中所述洗液为起始羟基羧酸水溶液，将与羟基羧酸晶体分离的一部分滤液排出系统，和将洗涤羟基羧酸晶体之后的洗涤滤液作为待进行该结晶步骤的羟基羧酸水溶液再循环；将该羟基羧酸进行缩聚形成羟基羧酸的低聚物；以及使该低聚物解聚以形成作为羟基羧酸的二聚体的环酯。
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