[发明专利]玻璃基板有效
| 申请号： | 201110135914.5 | 申请日： | 2011-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN102320744A | 公开（公告）日： | 2012-01-18 |
| 发明（设计）人： | 八木俊刚;后藤直雪 | 申请（专利权）人： | 株式会社小原 |
| 主分类号： | C03C3/093 | 分类号： | C03C3/093 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可以用于各种装置的要求表面清洁度为高水平的玻璃基板，特别是提供一种信息记录介质用玻璃基板，所述信息记录介质用玻璃基板具有作为以垂直磁记录方式等为代表的下一代信息记录介质基板用途所要求的各种物性，为了应对高密度化，抑制因附着于基板表面的污染物而产生的磁头碰撞，使介质成膜后的记录再生特性良好。另外，本发明提供一种具有高破坏韧性的信息记录介质用基板以及用于以优良的加工性加工该基板的玻璃材料，该玻璃材料适合应对在今后的记录密度增大方面可能成为必须的HAMR，该玻璃材料的耐热性高，另外该玻璃材料适用于能够以低成本将熔融玻璃进行薄板加工的直接加压法。本发明的玻璃基板的特征在于，其表面Zeta电位值低于-50mV，所述表面Zeta电位值是使用含有Na2SO4作为缓冲剂、且通过H2SO4和NaOH将pH调节为10的水溶液测定得到的。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 | ||
【主权项】：
一种玻璃基板，其特征在于，其表面Zeta电位值低于‑50mV，所述表面Zeta电位值是使用含有Na2SO4作为缓冲剂、且通过H2SO4和NaOH将pH值调节为1O的水溶液测定得到的，其中，将充分远离所述玻璃基板表面的所述水溶液的电中性区域的电位设为0V。
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