[发明专利]虚设图案以及形成虚设图案的方法

摘要

本发明公开一种虚设图案以及形成虚设图案的方法，该方法首先提供布局区域，该布局区域内包括布局图案，且该布局图案具有第一密度。随后于该布局图案中插入多个第一虚设图案，这些第一虚设图案具有第二密度，且该第二密度对应于该第一密度。接下来分割该布局区域以定义多个子区域，这些子区域分别具有第三密度，根据该第三密度与该第二密度的差异调整这些第一虚设图案的大小，以及将该布局图案与该第一虚设图案输出至光掩模上。

主权项

一种形成虚设图案的方法，包括：提供布局区域，该布局区域内包括元件布局图案、多个第一虚设图案和多个第二虚设图案并且具有第一密度；于该元件布局图案中插入多个第三虚设图案，该多个第三虚设图案具有第二密度，且该第二密度对应于该第一密度；分割包括该元件布局图案、该多个第一虚设图案、该多个第二虚设图案与该多个第三虚设图案的该布局区域以定义多个子区域，该多个子区域分别具有第三密度；根据该第三密度与该第二密度的差异调整各该子区域内的该第三虚设图案的大小；以及输出该元件布局图案与该多个第一虚设图案、该多个第二虚设图案与该多个第三虚设图案至光掩模上。