[发明专利]离子注入技术在手机部件上的应用及其手机部件无效

专利信息
申请号: 201110141010.3 申请日: 2011-05-30
公开(公告)号: CN102223425A 公开(公告)日: 2011-10-19
发明(设计)人: 黄志宏;丁阳;韩辉升;张劲松;黄诚 申请(专利权)人: 南通万德电子工业有限公司
主分类号: H04M1/02 分类号: H04M1/02;C08L77/00;C08L55/02;C08L69/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 226003 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了离子注入技术在手机部件上的应用及其手机部件,在离子注入机中将硼离子、碳离子、氮离子等离子注入到手机按键、其它用途按键、手机外壳或者手机屏幕的外表面,离子源是含有其元素的气体或者化合物,离子注入可以只注入一种离子,或者先注入一种再注入其他一种或数种离子,离子注入量为1010/cm2-1017/cm2。离子注入手机按键、其它用途按键、手机外壳或者手机屏幕等手机部件的工序是在手机部件成型后进行的,或者是在手机部件涂装面漆之后再进行的。本发明能够增强手机部件的表面硬度,改善耐摩擦性能和抗污性能,同时不改变产品原有的其它优良性能,方法简单,减少生产能耗,成本低廉。
搜索关键词: 离子 注入 技术 手机 部件 应用 及其
【主权项】:
一种离子注入技术在手机部件上的应用,采用离子注入机将离子注入高分子材料制品的表面,离子注入机含有离子形成区(1)、离子引出区(4)和靶位(6),离子形成区(1)含有触发极(2)和离子源(3),离子引出区(4)含有加速电场(5),靶位(6)便于放置高分子材料制品,其特征在于:注入的离子为硼离子、碳离子、氮离子、氧离子、氟离子、硅离子、磷离子、氦离子、氖离子、氩离子、非金属元素的离子团、铝离子、镁离子、钛离子、铬离子这些离子中一种或者数种,产生上述离子的离子源(3)是含有其元素的气体或者含有其元素的化合物;高分子材料制品为手机按键、其它用途按键、手机外壳或者手机屏幕(7);离子注入时的离子注入量为1010/cm2‑1017/cm2。
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