[发明专利]利用化学机械抛光设备进行化学机械抛光的方法有效

专利信息
申请号: 201110143287.X 申请日: 2011-05-30
公开(公告)号: CN102240927A 公开(公告)日: 2011-11-16
发明(设计)人: 路新春;沈攀 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;H01L21/02;H01L21/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 宋合成
地址: 100084 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种利用化学机械抛光设备进行化学机械抛光的方法,所述化学机械抛光设备包括多个化学机械抛光机、机械手和过渡装置,其中所述多个化学机械抛光机和所述过渡装置围绕所述机械手布置,所述方法包括以下步骤:A)通过所述机械手将所述过渡装置上的晶圆搬运到所述多个化学机械抛光机中的至少一个上以便利用所述多个化学机械抛光机对晶圆进行抛光;B)通过所述机械手将抛光后的晶圆搬运到所述过渡装置上;和C)重复步骤A)和B)直到完成所有晶圆的抛光。根据本发明实施例的利用化学机械抛光设备进行化学机械抛光的方法具有晶圆传输距离短、晶圆传输时间短和工作效率高的优点。
搜索关键词: 利用 化学 机械抛光 设备 进行 方法
【主权项】:
一种利用化学机械抛光设备进行化学机械抛光的方法,其特征在于,所述化学机械抛光设备包括多个化学机械抛光机、机械手和过渡装置,其中所述多个化学机械抛光机和所述过渡装置围绕所述机械手布置,所述方法包括以下步骤:A)通过所述机械手将所述过渡装置上的晶圆搬运到所述多个化学机械抛光机中的至少一个上以便利用所述多个化学机械抛光机对晶圆进行抛光;B)通过所述机械手将抛光后的晶圆搬运到所述过渡装置上;和C)重复步骤A)和B)直到完成所有晶圆的抛光。
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