[发明专利]一种对位参数计算方法无效
| 申请号： | 201110143586.3 | 申请日： | 2011-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN102809899A | 公开（公告）日： | 2012-12-05 |
| 发明（设计）人： | 黄玮;陈刚;陈辉;叶序明;沈佳;张艳;李平贵 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种计算对位参数的算法，其中光刻曝光时当前层次5的对位层次3和套刻测试层次4不是同一层次，首先，在当前层次5的曝光文件中存在预设默认的对位参数a，对位层次是层次3；其次，加入当前套刻测试层次4对层次3的套刻c；然后，当前层次5的曝光参数为d＝a+c；之后，曝光并测量当前层次5对层次4的套刻；之后，根据测试结果计算需要补偿的对位参数b；最后a和b相加得到新的a值，作为下一批次的预设默认对位参数。本发明可以提高套刻的准确性，减少返工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对位 参数 计算方法 | ||
【主权项】：
一种计算对位参数的算法，其中光刻曝光时当前层次5的对位层次3和套刻测试层次4不是同一层次，其特征在于：首先，在当前层次5的曝光文件中存在预设默认的对位参数a，对位层次是层次3；其次，加入当前套刻测试层次4对层次3的套刻c；然后，当前层次5的曝光参数为d＝a+c；之后，曝光并测量当前层次5对层次4的套刻；之后，根据测试结果计算需要补偿的对位参数b；最后a和b相加得到新的a值，作为下一批次的预设默认对位参数。
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