[发明专利]一种光刻机平衡质量系统有效
| 申请号： | 201110145391.2 | 申请日： | 2011-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN102809902A | 公开（公告）日： | 2012-12-05 |
| 发明（设计）人： | 夏海;陈庆生 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机平衡质量系统，该系统包括基础框架、大理石平台、微动台、平衡质量块以及反力矩缓冲机构；所述大理石平台固定于所述基础框架上；所述微动台通过垂向气浮垫支撑于所述大理石平台上，且沿X方向及Y方向相对于所述大理石平台运动；所述平衡质量块通过垂向气浮垫与所述基础框架相连，所述垂向气浮垫固定于所述基础框架上，且所述平衡质量块的运动情况与所述微动台的运动情况相反；所述反力矩缓冲机构与所述基础框架及所述平衡质量块相连，用于消除所述平衡质量块运动过程中因重心偏移产生的力矩，并且衰减所述平衡质量块向所述基础框架传递的振动；从而可提高光刻机系统的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 平衡 质量 系统 | ||
【主权项】：
一种光刻机平衡质量系统，其特征在于，包括：基础框架；大理石平台，固定于所述基础框架上；微动台，通过第一垂向气浮垫支撑于所述大理石平台上，且沿X方向及Y方向相对于所述大理石平台运动；平衡质量块，通过第二垂向气浮垫与所述基础框架相连，所述第二垂向气浮垫固定于所述基础框架上，且所述平衡质量块的运动情况与所述微动台的运动情况相反；以及反力矩缓冲机构，与所述基础框架及所述平衡质量块相连，用于消除所述平衡质量块运动过程中因重心偏移产生的力矩，并且衰减所述平衡质量块向所述基础框架传递的振动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110145391.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：包括流量和温度控制装置的压缩机系统
- 下一篇：一种新型蓝莓组培苗的繁育方法
