[发明专利]一种绒面黑硅材料的制备方法有效
申请号: | 201110146276.7 | 申请日: | 2011-11-22 |
公开(公告)号: | CN102400227A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
发明(设计)人: | 刘若鹏;赵治亚;缪锡根;张贤高 | 申请(专利权)人: | 深圳光启创新技术有限公司 |
主分类号: | C30B33/12 | 分类号: | C30B33/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518034 广东省深圳市福田*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种绒面黑硅材料的制备方法,包括粗糙工艺步骤和之后的黑硅层制备步骤,所述粗糙工艺步骤包括以下步骤:将聚苯乙烯颗粒小球分散在水中,在水面上形成单层小球膜;通过捞膜的方法将所述单层小球膜附着于硅片上;对附着有单层聚苯乙烯小球膜的硅片表面进行反应离子刻蚀,使在硅片上形成周期性的微结构。根据本发明的制备方法,可以在硅衬底上得到绒面结构的黑硅材料,可以广泛应用于太阳能电池及光电效应器件的制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 绒面黑硅 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种绒面黑硅材料的制备方法,包括粗糙工艺步骤和之后的黑硅层制备步骤,其特征在于,所述粗糙工艺步骤包括以下步骤:将聚苯乙烯小球颗粒分散在水中,在水面形成单层聚苯乙烯小球膜;通过捞膜的方法将所述单层聚苯乙烯小球膜附着于硅片上;对附着有单层聚苯乙烯小球膜的硅片表面进行反应离子刻蚀,在硅片上形成周期性的微结构。
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