[发明专利]激光制图装置和激光制图方法无效
申请号: | 201110146519.7 | 申请日: | 2011-05-25 |
公开(公告)号: | CN102259234A | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 山中昭浩 | 申请(专利权)人: | NTN株式会社 |
主分类号: | B23K26/04 | 分类号: | B23K26/04;B23K26/40;G02B7/28 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种激光制图装置和激光制图方法。本发明的课题在于提供可实现划线宽度的变窄和划线间距的小间距化的激光制图装置和方法。用于集成型薄膜太阳能电池的电极等制图。包括光学头(5)和光学头相对移动机构(6),该光学头(5)搭载了多个分别照射激光加工束的激光加工用光学系统(4),该光学头相对移动机构(6)使该光学头(5)沿上述基板(1)在相垂直的两个轴方向上相对移动。在各激光加工用光学系统(4)中,设置自动对焦机构(7)。设置对焦功能控制机构(32),其在基板(1)的加工开始位置启动该自动对焦机构(7)的对焦功能,在加工结束位置关闭该对焦功能。 | ||
搜索关键词: | 激光 制图 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种激光制图装置,其采用激光对形成于基板上的薄膜进行矩形状的分断加工,其特征在于该装置包括:基板固定台,该基板固定台放置上述基板;光学头,该光学头并设了多个分别照射激光加工束的激光加工用光学系统;光学头相对移动机构,该光学头相对移动机构使上述基板固定台和光学头相对移动,移动方向为沿上述基板的加工面上的相垂直的两个轴方向;加工控制机构,上述加工控制机构控制:通过该光学头相对移动机构使上述光学头相对上述基板而移动的通路,以及在该通路上分别进行上述光学头发生的激光的照射的开始和停止的基板的加工开始位置和加工结束位置,在上述光学头中,在上述各激光加工用光学系统上具有自动对焦机构,该机构使该激光加工用光学系统和上述基板的加工面之间的距离与上述激光加工用光学系统的焦距一致,设置对焦功能控制机构,该机构在上述基板的加工开始位置启动该自动对焦机构的作为自动对焦功能的对焦功能,在基板的加工结束位置结束该对焦功能。
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