[发明专利]用于制造导电片的方法和用于制造触控面板的方法有效
| 申请号： | 201110147048.1 | 申请日： | 2011-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN102314960A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 栗城匡志 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00;G06F3/041 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈松涛;蹇炜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 利用第一光(106a)辐照形成于透明支撑体(102)的一个主表面上的第一光敏层(104a)，由此对所述第一光敏层(104a)进行曝光的第一曝光处理，和利用第二光(106b)辐照形成于所述透明支撑体(102)另一个主表面上的第二光敏层(104b)，由此对所述第二光敏层(104b)进行曝光的第二曝光处理，所述曝光处理执行为使得入射到所述第一光敏层(104a)上的第一光(106a)基本上不到达所述第二光敏层(104b)且入射到所述第二光敏层(104b)上的第二光(106b)基本上不到达所述第一光敏层(104a)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 导电 方法 面板 | ||
【主权项】：
一种用于制造导电片(10、114)的方法，所述方法包括对光敏材料(100)进行曝光和显影的步骤，所述光敏材料(100)具有透明支撑体(102)、形成于所述透明支撑体(102)的一个主表面上的第一光敏层(104a)和形成于所述透明支撑体(102)的另一个主表面上的第二光敏层(104b)，其中：所述曝光步骤包括：利用光(106a)辐照所述透明支撑体(102)上的所述第一光敏层(104a)，由此对所述第一光敏层(104a)进行曝光的第一曝光处理；和利用光(106b)辐照所述透明支撑体(102)上的所述第二光敏层(104b)，由此对所述第二光敏层(104b)进行曝光的第二曝光处理；并且所述曝光步骤执行为使得入射到所述第一光敏层(104a)上的光(106a)基本上不到达所述第二光敏层(104b)且入射到所述第二光敏层(104b)上的光(106b)基本上不到达所述第一光敏层(104a)。
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