[发明专利]微光刻曝光系统的光学系统有效
| 申请号： | 201110147181.7 | 申请日： | 2006-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN102207691A | 公开（公告）日： | 2011-10-05 |
| 发明（设计）人： | M·托特泽克;S·贝德;W·克劳斯;H·费尔德曼;D·克拉默;A·多多克 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/30;G02B27/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明提供了一种微光刻投影曝光装置，包括照明系统和投影透镜，其中所述照明系统和/或所述投影透镜包括光学元件，所述光学元件包括嵌入在第二透镜部件(942b)中的第一透镜部件(942a)，其中所述第一透镜部件(942a)由在λ≈193nm处折射率大于1.7的立方晶体材料制成，并且其中所述第二透镜部件(942b)由光学各向同性材料制成。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 曝光 系统 光学系统 | ||
【主权项】：
一种微光刻投影曝光装置，包括照明系统和投影透镜，其中所述照明系统和/或所述投影透镜包括光学元件，所述光学元件包括在第二透镜部件(942b)中嵌入的第一透镜部件(942a)，其中所述第一透镜部件(942a)由在λ≈193nm处折射率大于1.7的立方晶体材料制成，并且其中所述第二透镜部件(942b)由光学各向同性材料制成。
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