[发明专利]光刻投影物镜波像差检测系统及检测方法有效
申请号: | 201110148554.2 | 申请日: | 2011-06-03 |
公开(公告)号: | CN102200697A | 公开(公告)日: | 2011-09-28 |
发明(设计)人: | 闫观勇;王向朝;彭勃;徐东波;段立峰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01M11/02 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种用于光刻机的基于空间像主成分拟合定心的光刻投影物镜波像差检测系统及检测方法,本发明通过主成分拟合找到空间像实测位置与名义位置的偏移量,从而得到空间像的主成分系数和波像差。所述方法首先是仿真一组空间像,对空间像进行主成分分析和线性回归得到主成分和回归矩阵,并得到主成分与仿真空间像坐标的样条插值函数。对X-Z面用像传感器扫描获得光刻机硅片面的空间像分布,首先通过定心流程得到该空间像实测位置与名义位置的偏移量,然后计算其对应的主成分系数。根据回归矩阵和主成分系数,采用最小二乘法拟合求解波像差。本发明补偿了空间像的定心误差,提高了求解的重复精度。 | ||
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【主权项】:
一种用于光刻机的基于主成分拟合定心的光刻投影物镜波像差检测系统,该系统包括产生照明光束的照明光源;照明系统;用于承载掩模,并具有精确定位能力的掩模台;能将通过测试掩模上的检测标记的光束汇聚到硅片面且数值孔径可调的投影物镜;能承载硅片并具有三维扫描能力和精确定位能力的工件台;安装在工件台上的像传感器,与所述像传感器相连并进行数据处理的计算机;其特征在于:所述检测标记由一组分别位于0度和90度方向孤立空图形组成,图形的线宽为250nm,周期为3000nm;所述的像传感器为CCD等光电转换器件,所述像传感器能够在水平方向和垂直方向进行扫描,水平方向和垂直方向定位精度都小于20nm。
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