[发明专利]一种SRAM存储器有效
申请号: | 201110152820.9 | 申请日: | 2011-06-09 |
公开(公告)号: | CN102290097A | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
发明(设计)人: | 闫浩;王东辉;洪缨;侯朝焕 | 申请(专利权)人: | 中国科学院声学研究所 |
主分类号: | G11C11/413 | 分类号: | G11C11/413 |
代理公司: | 北京亿腾知识产权代理事务所 11309 | 代理人: | 陈霁 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种SRAM存储器,包括由第一至第六P型MOS管(P1-P6)、第一至第四N型MOS管(N1-N4)构成的存储单元。所述第三P型MOS管(P3)和第四P型MOS管(P4)的栅极均与字线非信号相连,所述第三P型MOS管(P3)通过其源极和漏极连接于第一访问节点(A)和第一存储节点(Q)之间,所述第四P型MOS管(P4)通过其源极和漏极连接于第二访问节点(B)和第二存储节点(NQ)之间。所述第五P型MOS管(P5)的漏极与所述第一N型MOS管(N1)的漏极连接,所述第六P型MOS管(P6)的漏极与所述第二N型MOS管(N2)的漏极连接。本发明能够有效的降低静态的漏电电流从而降低整体的功耗,并且极大的增强了存储单元的稳定性。 | ||
搜索关键词: | 一种 sram 存储器 | ||
【主权项】:
一种SRAM存储器,包括由第一至第六P型MOS管(P1‑P6)、第一至第四N型MOS管(N1‑N4)构成的存储单元,其中所述第一P型MOS管(P1)的栅极与所述第二N型MOS管(N2)的漏极连接于第二存储节点(NQ),所述第二P型MOS管(P2)的栅极与所述第一N型MOS管(N1)的漏极连接于第一存储节点(Q);所述第一P型MOS管(P1)的源极与所述第二P型MOS管(P2)的源极均连接高电源电平;所述第一P型MOS管(P1)的漏极与所述第五P型MOS管(P5)的源极连接于第一访问节点(A),所述第二P型MOS管(P2)的漏极与所述第六P型MOS管(P6)的源极连接于第二访问节点(B);所述第一N型MOS管(N1)的栅极与第五P型MOS管(P5)的栅极连接,所述第二N型MOS管(N2)的栅极与所述第六P型MOS管(P6)的栅极连接;所述第五P型MOS管(P5)的漏极与所述第一N型MOS管(N1)的漏极连接,所述第六P型MOS管(P6)的漏极与所述第二N型MOS管(N2)的漏极连接;所述第一N型MOS管(N1)和第二N型MOS管(N2)的源极均连接低电源电平;所述第三N型MOS管(N3)和第四N型MOS管(N4)的栅极均连接字线信号,所述第三N型MOS管(N3)通过其源极和漏极连接于位线信号和第一访问节点(A)之间,所述第四N型MOS管(N4)通过其源极和漏极连接于位线非信号和第二访问节点(B)之间;所述第三P型MOS管(P3)和第四P型MOS管(P4)的栅极均相连字线非信号,所述第三P型MOS管(P3)通过其源极和漏极连接于第一访问节点(A)和第一存储节点(Q)之间,所述第四P型MOS管(P4)通过其源极和漏极连接于第二访问节点(B)和第二存储节点(NQ)之间。
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