[发明专利]腐蚀阻挡层阻挡特性的检测结构及检测方法有效
| 申请号： | 201110153502.4 | 申请日： | 2011-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN102628788A | 公开（公告）日： | 2012-08-08 |
| 发明（设计）人： | 刘晓娣;孙力 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N17/00 | 分类号： | G01N17/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜;王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体和显示面板领域，公开了一种腐蚀阻挡层阻挡特性的检测结构，包括：基板、沉积在基板上的被保护层和沉积在被保护层上的腐蚀阻挡层；还公开了一种基于上述检测结构的检测方法，包括以下过程：将检测结构放入被保护层腐蚀液进行腐蚀；对腐蚀后的检测结构进行图形形貌分析。本发明利用被保护层腐蚀液穿过腐蚀阻挡层的缺陷以腐蚀被保护层，达到放大腐蚀阻挡层缺陷的目的，通过对腐蚀后的被保护层进行图形形貌分析，观察记录腐蚀阻挡层的缺陷，为实现高质量腐蚀阻挡层的制造和优化提供依据；上述结构简单、易制作，方法简便易行，适用于多种材料特性的检测。 | ||
| 搜索关键词： | 腐蚀 阻挡 特性 检测 结构 方法 | ||
【主权项】：
腐蚀阻挡层阻挡特性的检测结构，其特征在于，包括：基板、沉积在基板上的被保护层和沉积在被保护层上的腐蚀阻挡层。
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