[发明专利]一种薄膜条形结构、太阳能电池及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110157626.X 申请日: 2011-06-13
公开(公告)号: CN102832116A 公开(公告)日: 2012-12-19
发明(设计)人: 朱慧珑;骆志炯;尹海洲 申请(专利权)人: 聚日(苏州)科技有限公司
主分类号: H01L21/301 分类号: H01L21/301;H01L31/18;H01L31/0224;H01L31/042
代理公司: 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 代理人: 朱海波
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提出一种薄膜条形结构和制作方法以及薄膜条形结构阵列。该薄膜条形结构的制造方法包括:提供半导体衬底;在所述半导体衬底的第一表面和/或第二表面上形成至少一条凹痕或一排分离孔;从所述第一表面刻蚀半导体衬底形成至少两个第一沟槽,以及从所述第二表面刻蚀半导体衬底形成至少一个第二沟槽;以及从所述凹痕或分离孔分离所述半导体衬底,从所述第一沟槽和第二沟槽切割或拉伸所述半导体衬底以形成薄膜条形结构。通过本发明能够有效减少从半导体衬底上分离薄膜条形结构时对条形结构和薄膜的破坏,提高产率。本发明所提出的薄膜条形结构和制作方法还可节省半导体用料和降低制造成本。
搜索关键词: 一种 薄膜 条形 结构 太阳能电池 及其 制造 方法
【主权项】:
一种薄膜条形结构的制作方法,所述方法包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底包括第一表面和与其相对的第二表面;在所述第一表面和/或第二表面上形成至少一条凹痕或一排分离孔;从所述第一表面刻蚀半导体衬底形成至少两个第一沟槽,以及从所述第二表面刻蚀半导体衬底形成至少一个第二沟槽,每个所述第二沟槽位于相邻的两个所述第一沟槽之间;以及从所述凹痕或分离孔分离所述半导体衬底,从所述第一沟槽和第二沟槽切割或拉伸所述半导体衬底以形成薄膜条形结构,其中,所述第一沟槽和第二沟槽之间的半导体衬底形成所述薄膜条形结构的半导体基板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于聚日(苏州)科技有限公司,未经聚日(苏州)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110157626.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top