[发明专利]封装基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110161551.2 申请日: 2011-06-02
公开(公告)号: CN102244060A 公开(公告)日: 2011-11-16
发明(设计)人: 朴珠炫;洪荣文;金锡奉 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L23/498;H01L21/48
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陆勍
地址: 中国台湾高雄市*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种封装基板及其制造方法。封装基板包括一第一介电层、一第一金属层、一第二金属层、一第三金属层、一第二介电层及一第四金属层。第一介电层具有一第一凹槽、一第二凹槽及一第三凹槽。第三凹槽位于第一凹槽及第二凹槽之间。第一金属层内埋于第一凹槽内。第二金属层内埋于第二凹槽内。第三金属层内埋于第三凹槽内。第三金属层的上表面低于第一介电层的上表面。第二介电层设置于第二凹槽内,并覆盖至少部份的第三金属层。第四金属层覆盖部份的第一介电层及第二介电层,并电性连接第一金属层及第二金属层。
搜索关键词: 封装 及其 制造 方法
【主权项】:
一种封装基板,包括:一第一介电层,具有一第一凹槽、一第二凹槽及一第三凹槽,该第三凹槽位于该第一凹槽及该第二凹槽之间;一第一金属层,内埋于该第一凹槽内;一第二金属层,内埋于该第二凹槽内;一第三金属层,内埋于该第三凹槽内,该第三金属层的上表面低于该第一介电层的上表面;一第二介电层,设置于该第三凹槽内,并覆盖至少部份的该第三金属层;以及一第四金属层,覆盖部份的该第一介电层及该第二介电层,并电性连接该第一金属层及该第二金属层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110161551.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code