[发明专利]化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构无效
申请号: | 201110162147.7 | 申请日: | 2011-06-16 |
公开(公告)号: | CN102230165A | 公开(公告)日: | 2011-11-02 |
发明(设计)人: | 朱建军;王国斌;张永红 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215123 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构,它包括层叠设置的上层进气层、至少一中间进气层和下层冷却层;上层进气层中设有上层进气槽,该上层进气槽与至少一上层进口管和至少一上层出口管连通,上层出口管上端与上层进气槽连通,下端由中间进气层和冷却层中垂直穿出;中间进气层中设有中间进气槽,该中间进气槽与至少一中间进口管和至少一中间出口管连通,第一出口管上端与中间进气槽连通,下端由冷却层中垂直穿出;中间出口管同轴套设于对应上层出口管上,且该上层出口管和中间出口管之间留有环形间隙。本发明加工工艺简单,拆装维护方便,清洗彻底,并能在均匀进气的同时抑制预反应,可为各类化学气相沉积工艺提供可靠的硬件支持。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 外延 备用 喷淋 结构 | ||
【主权项】:
一种化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构,其特征在于:它包括层叠设置的上层进气层、至少一中间进气层和下层冷却水层;其中,所述上层进气层中设有上层进气槽,该上层进气槽与至少一上层进口管和至少一上层出口管连通,所述上层出口管上端与上层进气槽连通,下端由中间进气层和下层冷却层中垂直穿出;所述中间进气层中设有中间进气槽,该中间进气槽与至少一中间进口管和至少一中间出口管连通,所述第一出口管上端与中间进气槽连通,下端由下层冷却层中垂直穿出;所述中间出口管同轴套设于对应的上层出口管上,且该上层出口管和该中间出口管之间留有环形间隙。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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