[发明专利]一种干冰微粒喷射清洗装置有效
| 申请号： | 201110166485.8 | 申请日： | 2011-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN102836844A | 公开（公告）日： | 2012-12-26 |
| 发明（设计）人： | 郭新贺;景玉鹏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 王建国 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种干冰微粒喷射清洗装置，属于半导体清洗技术领域。该装置包括CO2供应系统、清洗系统和真空系统；CO2供应系统为清洗系统提供清洗所需CO2，真空系统为清洗系统提供真空环境；CO2供应系统和真空系统分别连接于清洗系统。利用该装置时，清洗效率高，对硅片表面不会产生损伤，节省大量水资源，操作简单，无环境污染，可以使硅片表面达到高洁净度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 干冰 微粒 喷射 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种干冰微粒喷射清洗装置，其特征在于，包括清洗系统、CO2供应系统和真空系统；所述CO2供应系统为所述清洗系统提供清洗所需CO2，所述真空系统为所述清洗系统提供真空环境；所述CO2供应系统和所述真空系统分别连接于所述清洗系统。
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