[发明专利]浸没式光刻设备有效
| 申请号： | 201110166687.2 | 申请日： | 2009-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN102221790A | 公开（公告）日： | 2011-10-19 |
| 发明（设计）人： | C·J·G·范德敦根;N·F·寇普拉斯;M·H·A·里恩德尔;P·M·M·里伯艾格特斯;J·C·H·穆肯斯;E·H·E·C·奥姆梅伦;M·贝克尔斯;R·莫尔曼;C·D·格乌斯塔;D·M·H·菲利普斯;R·J·P·沃黑斯;P·马尔德;E·范维利特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种浸没式光刻设备，包括：被配置用于支撑衬底的衬底台；和流体处理系统，所述流体处理系统位于衬底台和/或衬底上方，所述流体处理系统包括具有多孔构件的抽取器，所述多孔构件具有表面，所述表面具有至少一个相对于衬底和/或衬底台倾斜的区域，使得在所述多孔构件的所述表面与面对所述流体处理系统的衬底和/或衬底台的表面之间的距离从径向的最里面的位置至径向的最外面的位置增加。 | ||
| 搜索关键词： | 浸没 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种浸没式光刻设备，包括：被配置用于支撑衬底的衬底台；和流体处理系统，所述流体处理系统位于衬底台和/或衬底上方，所述流体处理系统包括具有多孔构件的抽取器，所述多孔构件具有表面，所述表面具有至少一个相对于衬底和/或衬底台倾斜的区域，使得在所述多孔构件的所述表面与面对所述流体处理系统的衬底和/或衬底台的表面之间的距离从径向的最里面的位置至径向的最外面的位置增加。
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